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機械研磨-煅燒制備SiO2微球-TiO2復(fù)合顏料試驗研究-采用攪拌磨中二氧化硅微球(MS-SiO2)和偏鈦酸(TiO2·nH2O)濕法研磨、研磨產(chǎn)物煅燒方式制備了MS-SiO。

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氣相二氧化硅的替換劑常用指南「多圖」[來源:揚中格拉斯]白炭黑是白色粉末狀X-射線無定形硅酸和硅酸鹽產(chǎn)品的總稱,主要是指沉淀二氧化硅、氣相二氧化硅、超細(xì)二氧化硅。

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某機械制造廠鑄造車間,在型砂、鑄型、打箱、清砂及鑄件清理等生產(chǎn)過程中產(chǎn)生大量含離二氧化硅的粉塵,按照職業(yè)病危害因素分類,含游離二氧化硅的粉塵屬。

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超大規(guī)模集成電路化學(xué)機械拋光全局平面化。超大規(guī)模集成電路二氧化硅介質(zhì)化學(xué)機械拋光研究劉立威摘要:隨著集成電路工業(yè)的發(fā)展,芯片集成度不斷提高,特征尺寸不。

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2018年9月5日-化學(xué)機械拋光技術(shù)及SiO2拋光漿料研究進(jìn)展-隨著半導(dǎo)體工業(yè)和集成電路(IC)工藝的飛速發(fā)展,化學(xué)機械拋光(CMP)作為目前能提供超大規(guī)模集成電路(VLSI。

本人在工作中經(jīng)常發(fā)現(xiàn)渣中有時候二氧化硅過高影響了渣中的堿度而且三氧化二鋁比較高影響了曼指數(shù)有時需要多加石灰才能達(dá)到去硫的效果,請大家討論。

三、SiO2拋光漿料SiO2拋光漿料優(yōu)點是選擇性和分散性好,機械磨損性能較好,化學(xué)性質(zhì)較活潑,后清洗過程廢液處理較容易,其缺點是硬度較高,易在被拋光物體表面造成不平整。

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化學(xué)機械拋光用SiO2研磨料的制備及其后處理-以水玻璃為主要原料、采用多次生長法,低zeta電位生長、高電位陳化等控制過程,生產(chǎn)出具有不同粒徑、穩(wěn)定。

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機械力化學(xué)法制備GMA改性二氧化硅及其性能研究GMAModifiedSilicaHybridParticlesPreparedbyMechanochemicalMethodandtheStudyofItsPer。

二氧化硅屬于玻璃材質(zhì)可以加工更多關(guān)于二氧化硅機械打磨的問題

贏創(chuàng)工業(yè)公司7月27日表示,將投資數(shù)千萬歐元,計劃在2019年夏天實現(xiàn)其安特衛(wèi)普氣相二氧化硅工廠擴產(chǎn)目標(biāo)。

本發(fā)明涉及用于從其上具有銅及障壁層材料的微電子器件基板將該等材料移除的化學(xué)機械拋光CMP組合物及單一CMP壓臺方法。此方法包括在單一的CMP壓臺墊上。